单晶生长炉温控自动化解决方案
 
简介
 
        单晶硅材料被广泛应用于宽禁带半导体材料如氮化镓的衬底、智能显示屏盖板、飞秒激光器基质材料、军事红外窗口、航空航天中波透红外窗口材料等方面,涉及到科学技术、国防与民用工业等诸多领域,近年来随着科技的发展,单晶硅材料的应用需求量也在快速增长。
 
        该方案采用温梯法控制方法,在晶体生长炉内部形成阶梯温场,实现晶体生长的精确控制,晶体生长阶梯温场的波动及时响应和反馈,直接决定了晶体的生长速度缓慢、一致性、成品率等关键特性。因此,温控算法的好坏直接单晶体的质量和成品率,降低蓝宝石单晶体的制备成本。
 
系统功能
 
        系统由晶体生长炉、控制系统、温度控制装置组成。
 
 
        晶体生长炉体分为6个独立的不同温区的温场,每个温场独立加热、独立设置热电偶进行测温、独立在上位机上显示温度,系统自动调控结晶区的温度实现晶体生长界面温度的控制,使其符合晶体生长的最佳温度范围。系统可精确控制单晶体生长过程中的各温场波动范围小于±0.1℃。
 
        另外为了更好检测炉内各温场的温度另设有10路热电偶传感器引入系统做监视。
 
 

        系统为每个温场设有16段温度控制,形成多个不同温区的温场,实现晶体生长速度的控制,同时采用腾嘉公司研发的专用温度控制算法,可解决不同温场的耦合难题,真正实现高精度的温度控制,精度可达±0.1℃。
 
        采用腾嘉公司的温梯算法,使得各温场温度、晶体生长速度可控性强、晶体生长潜热可以快速释放、生长速度快生长周期短、自动化程度高、节能30%以上、优良率大、产品利用率高、综合成本降低50%以上。